引线框架卷对卷曝光机，专为IC、功率器件等产品的引线框架黄光制程图形转移而开发。设备采用全自动RTR卷对卷工艺，***适配SOP、SOT、QFN及分立器件等各类引线框架的大规模生产需求。

核心对位系统配备多组高清CCD视觉组件，结合智能涨缩补偿算法，可实时修正超薄铜带因张力波动和温升效应产生的形变误差，确保持续稳定的套刻精度，有效降低引脚偏移、连铜短路等质量缺陷。闭环伺服张力控制系统针对0.1～0.5mm铜带量身优化走料方案，确保卷材平稳输送，从源头避免基材拉伸、跑偏及翘曲问题。

曝光光源采用UV‑LED平行冷光源，光照均匀性优异，相较传统汞灯发热量大幅降低，避免了超薄铜带热变形风险；同时光源寿命长、能耗低，长期运行可***节省耗材与电力成本。机型支持双面同步曝光，一次完成正反面图形转移，保障双面蚀刻产品的线路对位精度。

设备集成自动放卷、粘尘、曝光、收卷一体化连续作业，并支持在线接料，限度减少原材料浪费。预留标准化通讯及对接接口，可便捷连接覆膜、显影、蚀刻等设备，搭建完整的全自动黄光生产线。内置多套工艺配方，产品规格切换一键调取，既满足大批量量产需求，也兼顾多规格柔性生产。

整机搭载自主研发控制系统，操作界面简洁直观，支持与工厂MES系统对接，实现生产数据的全流程追溯。国产化设计在***稳定可靠的同时具备高性价比，备件交付周期短，本地技术团队可快速响应维保需求，是引线框架企业产线升级与产能扩充的理想选择。