详情描述

钽靶材： 

材质：纯钽

纯度: ≥99.95%

美标: RO5200，RO5400

标准: ASTM B708

形状:   自定义  

清晰度:0.1’’-2’’, 直径r:2”-20”

直径公差: + / - 0.008”

应用：钽靶主要应用于半导体和磁记录等薄膜溅射行业

再结晶：95%

晶粒度：40μm

表面粗糙度：Ra 0.8

平整度：0.1mm or 0.10%

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