详情描述
高温原位池为开展气固原位XAFS实验而设计。可以在原位环境开展高温下的费托合成等各种高温气体催化反应。原位池配备有Kapton膜窗口,可以应用于XAFS透射模式;配备加热电阻水冷系统及控制系统,实现最高500°C的高温环境。
产品特点 Product Features
●双加热电阻,最高温度500°C,快速升温
●配备有水冷系统和温度反馈控制系统
●配备Kapton膜窗口
●完全适配TableXAFS谱仪
●配备进气和出气接口
●适用于压片及薄膜样品

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高温原位池为开展气固原位XAFS实验而设计。可以在原位环境开展高温下的费托合成等各种高温气体催化反应。原位池配备有Kapton膜窗口,可以应用于XAFS透射模式;配备加热电阻水冷系统及控制系统,实现最高500°C的高温环境。
产品特点 Product Features
●双加热电阻,最高温度500°C,快速升温
●配备有水冷系统和温度反馈控制系统
●配备Kapton膜窗口
●完全适配TableXAFS谱仪
●配备进气和出气接口
●适用于压片及薄膜样品

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