小型PECVD系统

型号：PE1260S

用途：小样品的等离子化学气相沉积，石墨烯沉积，半导体镀膜等

规格：1500*600*1000MM

特点：触摸屏集中一键控制，实验证明此结构沉积速度快，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂

该型号PECVD为整体精简款，综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点，触摸屏集中一键控制，实验证明此结构沉积速度快，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。而且控制部分采用了自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统，使得操作更加简便，功能更加强大。

主要特点：

1. 管内真空度自动平衡——管内真空度实时监测，自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1～100Pa之间，该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度，使成膜效果达较佳的均匀性。

2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协调控制——成仪AIO控制系统；

3. 射频功率的定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，自动运行；

4. 炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离，在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区，使样品快速冷却；

5. 整机结构融为一体——整机长度只有1.5米，移动方便，避免分散组装的困扰。

产品参数：