CVD气相沉积管式炉

本款CVD管式炉工作温度为300℃至1600℃，配备真空泵，气体混合装置。我们的CVD管式炉采用了温度控制系统，高温精度，出色的气体流量精度，易于操作，出色的隔热效果和温度均匀性。 主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

高温真空管式炉特点

• 额定温度：
  1200℃（HRE电阻丝加热）
  1400℃ （硅碳棒加热）
  1600℃ （硅钼棒加热）

• 智能化51段可编程自动控制

• 双层风冷结构；炉壳表面温度低于50℃

• 304不锈钢双层密封法兰

• 两端可调节法兰支撑结构，延长炉管使用寿命

• 超温保护功能，当温度超过允许设定值自动断电

• 安全保护当炉体漏电时自动断电

• 升温速率≦20 ℃ /分

• 控温精度±1 ℃

• 真空度-0.08MPa

• 配置分子泵机组，真空度可达7×10^(-3)Pa

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