GRDLC（diamond-like carbon）镀膜设备

主要特点

1. 采用反应气体等离子源辅助沉积，对工件进行预清洗及镀膜时的辅助沉积。 

2. 采用大功率的脉冲偏压电源，增强膜层的附着力。

  3.采用多套孪生靶及弧，可同时安装2-6种不同纯金属或合金靶材，获得复合纳米镀层。

  4.工件架采用公自转结构，承重能力强及耐高温，并可移动出腔体，方便装卸比较重的模具，或根据客户要求定制，采用变频器调节

     转速无极可调节。

  5.采用触摸屏及PLC.可实现全自动控制，自动和手动随时切换。